Computerchips: Nanostrukturen organisieren sich selbst
„Das Ergebnis unserer Arbeit ist ein gestaltetes Muster aus echten Schaltkreisen, und nicht bloß Teststrukturen“, sagt Philip Wong von der Stanford University. Für diesen Erfolg strukturierte seine Arbeitsgruppe einen Silizium-Wafer mit einer symmetrischen Anordnung von etwa 30 Nanometer kleinen Löchern. Dazu reichten verfügbare Lithografie-Methoden aus, bei der mit ultraviolettem Licht ein Muster auf die Chiprohlinge projiziert wird und ein chemischer Ätzprozess folgt. Die so entstandenen Muster beschichteten die Forscher hauchdünn mit einem flüssigen Polymer auf der Basis von Polystyrol und Polymethylmethacrylat. Abhängig von der Verteilung der Löcher und der Beschichtungsdicke bildete dieses Polymer selbstständig bis zu 20 nm kleine, zylindrische, hexagonal angeordnete Strukturen.
Zwar erreichen Halbleiterfirmen schon heute in ihrer Chipfertigung Strukturgrößen in den gleichen winzigen Dimensionen. Doch die Selbstanordnung von Polymeren birgt das Potenzial, noch kleinere Muster erzeugen zu können. Das wäre ein großer Vorteil für die Halbleiterindustrie, da sie ihre Anlagen auch für die kommende Chipgeneration nicht auf eine neue Lichtquelle mit Wellenlängen im weichen Röntgenbereich umstellen müssten. Diese sogenannte EUV-Lithografie wird zwar seit Jahren Stück für Stück verbessert, stellt jedoch einen großen Kostenfaktor dar. Aus diesem Grund werden die Möglichkeiten mit den vorhandenen ultravioletten Lichtquellen bis an ihre Grenzen ausgereizt.
Um diese Grenzen mit der Methode der Selbstanordnung zu noch kleineren Strukturen verschieben zu können, müssten Wong und Kollegen durch die Wahl der Polymere und eine Optimierung des Beschichtungsvorgang noch mehr Kontrolle über winzige Schaltkreisstrukturen bekommen.